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● 可以在高氧氣氣氛下使用的蒸發(fā)源,耐受氧氣壓力1 x10-3 mbar

● 熱材料出氣少,對(duì)真空影響小

● 使用溫度1200C


耐氧蒸發(fā)源(Oxygen Effusion Cell)